PVD Coating
PVD (Depositio Vaporis Physica) technologiam refert usum methodorum physicarum sub vacuis conditionibus ad vaporandum superficies fontis materialis (solidi vel liquidi) in atomos gaseos vel moleculas, vel partim ionize in iones, et per gas- humili (pressione) seu processus plasma) A technologia, quae membranas tenues cum quibusdam specialibus functionibus in superficie subiecti deponit.PVD (Physical Depositio Vapor) est curatio principalis superficiei technologiae late in modificatione superficiei, functionalisationi, decorationis, etc. materiarum in variis industriis.
PVD (depositio vaporis corporis) efficiens technologia maxime dividitur in tria genera: vacuum evaporatio efficiens, vacuum putris coating, et vacuum ion plating.Modi principales depositionis vaporum physicorum includunt evaporationem vacuum, putris tunica, arcus plasma coatingis, ion tunica, etc. Apparatus vacuum correspondentes tunicam includit vacuum evaporationem machinis coatingis, machinis scatentibus vacuum, et machinis vacuis.
Nostra producta includunt electronica trabes fusiles lineres, evaporatio tungsten, filamenta electronica gun tungsten, navigia evaporatio, materias evaporatio, scuta putris, etc.
Vacuum fornacis
Fornax vacui systematis vacuo utitur (de antinis vacuo diligenter collectis, cogitationibus vacuo, valvularum vacuo, et aliis componentibus) in certo spatio cavitatis fornacis utatur pars materiae in cavitate cavitatis fornacis, ita ut pressionis in fornace cavitas minor est quam vexillum atmosphaericum pressionis.spatium in cavitate fornacis consequitur statum vacuum, quod est fornax vacui.
Fornax vacuus est fornax vacui caloris curatio, quae secundum applicationem distinguitur et haec genera includit;
Vacuum fornacem exstingui, fornacem vacuum fornacem, vacuum furnum fornacem, vacuum furnum, fornacem vacuum magnetem, fornacem vacuum temperantem, fornacem vacantem vacuum, fornacem vacuam diffusionem glutino, fornacem vacuum carburizing, &c.
Fornacibus vacui praecipue adhibentur ad incendium ceramicum, vacuum excoquunt, electricum vacui partes devagantes, furnum, brazing partium metalli, ceramic-metallum signantes, vaporum corporis depositio (PVD) etc.
Offerimus elementa calefactoria, cymbam trays et vectitores, scuta caloris, uasa et linera, filamenta tungacula et fontes evaporationis, ligatores, et plura, quae in tungsten, molybdeno, vel in tantalibus materiis praesto sunt, ac nativus esse potest.
Photovoltaic & Semiconductor
Unius fornacis silicon-crystal incrementum, etiam fornax cristallina vel fornax siliconis fornax notissima, peculiaris instrumenti usus est in industria photovoltaico et semiconductori ad praecipuum qualitatem singularum crystallorum siliconum ingots producendum.Silicon monocrystallinus est materia fundamentalis ad fabricandas machinas semiconductores ut ambitus (ICs), cellulas solares et sensores integrantes.
"Methodus Czochralski" nunc est maxime late usus methodus ad silicon-crystal praeparandum.
Cum silicon-crystal unicum parans methodum Czochralski methodo (CZ methodo utens), primum summus puritatis polycrystallinus pii in vicus uasculum posuit, expecta polycrystallinum silicum ut in uno fornace crystallo liquefaciat, et deinde semen crystallum in semen figat. axi, et in superficie solutionis inseres.Exspectans fusionem seminis cristalli et solutionem, Pii seminis crystallum solidare incipiet, et per cancellos seminis crystalli structuram cristallorum simplicis formare incipiet.In hoc processu, semen crystallum lente trahi debet ut unum cristallum silicon-crescere sinat.
Semen virgae molybdaenae praebent, Tungsten et molybdaenum fusorium lineras, fasteners, molybdaenos hamos, tungsten carbide malleos etc.
Vitrum et Terra Rara
Industria vitrea in hodierna societate vitale munus exercet, materiam necessariam praebens constructionis, translationis, technologiae, sanitatis, ac sarcinae dum innovationem, sustinebilitatem et incrementum oeconomicum agit.
Electrodes molybdaeni ad vitrum liquefactionem praebere possumus.Communiter diametri molybdeni electrode ab 20mm usque ad 152.4mm vagantur, et longitudo unius electrodis usque ad 1500mm esse potest.Praebere possumus superficies alkali lotae, superficies machinae politae, etc.
Rara terrae industria involvit extractionem, processus, et utensionem rariorum elementorum terrestrium, quae sunt key in innovatione technologica promovenda et ad transitum ad humilem carbonem, summus technicae oeconomiae sustentans.Rara elementa terrae momenti sunt elementa variarum technologiarum et applicationum provectus.
Tungsten, molybdenum et tantalum elementa calefactionis praebere possumus;sintered tungsten, molybdaeno uasis et graphite uasculis, etc.
Instrumenta & Metre Accessories
● Diaphragmata metalla maxime adhibentur in diaphragmate pressione gauges et transmittentes.Materies quae efficimus sunt SS316L, Tantalum, Titanium, HC276, Monel400, et Inconel625.
● Electrodes signum maxime in flumetris electromagneticis adhibentur.Electrodum magnitudo M3~M8 est, et materia includunt SS316L, Tantalum, Titanium, et HC276.
● Terra Electrode, etiam anulus humus appellatus, maxime in fluminibus electromagneticis usus est et plerumque in paria adhibetur.Magnitudo ab DN25~DN600 est, et materies SS316L, tantalum, titanium, HC276 sunt.
● LABIUM diaphragmate obsignatum, plerumque diaphragmate obsignatum, cellulam a medio mensurans segregare.Lingum materias quas proferimus sunt SS316L, Titanium, HC276, et Tantalum.Obsequor ASME B 16.5, DIN EN 1092-1, aliisque signis.
Visne plura de nostris fructibus cognoscere?
Nobis loquere
Amanda│Sales Manager
E-mail: amanda@winnersmetals.com
Phone: +86 156 1977 8518 (Whatsapp/Wechat)
Si plura scire vis singularia et pretia fructuum nostrorum, pete procuratorem nostrum venditio, respondebit tibi quam primum (plerumque non plus quam 24h), gratias tibi.